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IEEE Journal of the Electron Devices Society

出版商：Institute of Electrical and Electronics Engineers · ISSN：2168-6734 · 国家/地区：US · 类型：journal · OA 开放获取 · 官网：https://ieeexplore.ieee.org/xpl/RecentIssue.jsp?punumber=624...

研究主题：Semiconductor materials and devices · Advancements in Semiconductor Devices and Circuit Design · Ferroelectric and Negative Capacitance Devices · Silicon Carbide Semiconductor Technologies · Thin-Film Transistor Technologies

数据覆盖：12 个公开学术数据源交叉核验（comments、crossref、doaj、fqb、jcr、openalex、scimago、submission、wikidata、xr、cwts、jufo）。

数据来源与实体核验

期刊官网 · OpenAlex 期刊实体 · Wikidata 期刊实体

核心指标

影响因子(JCR 2025):2.900
JCR 分区:Q2(ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC)
中科院分区(2025):工程技术 3区，大类排名 527/1437;小类:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：电子与电气 4区，排名 177/352
新锐分区(2026):工程技术 3区
SJR:0.506(Q2)，2025 年，United States
CWTS 2025:SNIP 1.217 · IPP 2.885 · 自引率 3.1%
JUFO 出版渠道等级:芬兰 2 · 挪威 1
h-index:64
i10 指数:772
近两年篇均被引:2.63
载文量 1983 · 总被引 26526
Crossref DOI 总量:1942，近期 466

逐年趋势

近年影响因子:2020 2.48 → 2021 2.52 → 2022 2.3 → 2023 2 → 2024 2.4
近年 SJR:2021 0.574(Q2) → 2022 0.573(Q2) → 2023 0.505(Q2) → 2024 0.519(Q2) → 2025 0.506(Q2)

投稿参考

投稿人评价:3.1 分(11 条评价)，置信度 medium
实测录用率:约 100%(投稿记录聚合,仅供参考)
平均审稿轮次:1.0 轮
投稿难度指数:2.8 / 5
审稿速度指数:2.9 / 5
DOAJ 收录的开放获取期刊,收取文章处理费(APC)
版面费(APC)约 $1350 USD(以期刊官网为准)
提供 LaTeX 投稿模板(IEEEtran.cls)
提供投稿指南

投稿人评论摘录

2022/02(月初) 收到accepted letter(来源:Dcard 博士板)
審查速度很快；分發給Editor以及審稿後決定會拖到接近兩個禮拜(来源:Dcard 博士板)
2022/02(月初) 收到accepted letter(来源:Dcard 博士板)

摘录自公开投稿记录聚合,仅供投稿参考。

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