极紫外光学元件全频段面形误差检测与缺陷探测技术研究进展

作者：LI Jiahui, Kuang Cuifang, XU Yueshu, BIAN Yinxu, LIANG Jiadong, CUI Yudong, Liu Xu · 发表于：Optics and Precision Engineering · 年份：2025 · DOI：10.37188/ope.20253317.2661 · 被引用次数：2 · 研究领域：Military Technology and Strategies、Legal and Regulatory Analysis、Linguistic, Cultural, and Literary Studies

极紫外光刻作为半导体制造领域的核心技术，对光学元件表面质量提出了原子级精度的严苛要求，并要求光学元件近乎为零的表面/亚表面损伤。本文聚焦光学元件超精密制造，介绍了光学元件材料特性与制造工艺引起的表面误差形成机理，剖析了不同空间尺度误差检测的技术挑战与研究进展。针对低频面形误差检测，重点分析了绝对检测技术与子孔径拼接检测技术。对于粗糙度检测，分析了白光干涉显微技术、原子力显微技术，超分辨白光干涉技术的研究进展。针对光学元件表面/亚表面缺陷的多模态表征需求，对比了各类电镜、干涉、探针、散射等检测方式的优缺点。最后，基于当前技术瓶颈与高性能光学元件需求，展望了光学元件检测技术向智能化、多物理场耦合表征及原位监测等方向的发展趋势，为关键装备部件国产化提供技术参考。