Softlithographie

作者：Younan Xia, George M. Whitesides · 发表于：Angewandte Chemie · 年份：1998 · DOI：10.1002/(sici)1521-3757(19980302)110:5<568::aid-ange568>3.0.co;2-x · 被引用次数：265 · 研究领域：Nanofabrication and Lithography Techniques、Advancements in Photolithography Techniques、Microfluidic and Capillary Electrophoresis Applications

Elastomere Stempel und Gußformen bieten die große Chance, die Nachteile der derzeit in der Erzeugung kleiner Strukturen führenden Photolithographie zu eliminieren. Bei den „Softlithographie”︁ genannten Verfahren werden keine aufwendigen Laborausrüstungen und hochenergetischen Strahlungen benötigt. Damit sind diese Techniken einfach, billig und auch für Molekülchemiker leicht zugänglich. Der derzeitige Entwicklungsstand auf diesem zukunftsweisenden Forschungsgebiet wird hier vorgestellt.