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JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B
出版商：American Vacuum Society · ISSN：2166-2746, 2166-2754 · 国家/地区：US · 类型：journal · 官网：http://scitation.aip.org/content/avs/journal/jvst
研究主题：Semiconductor materials and devices · Advancements in Photolithography Techniques · Integrated Circuits and Semiconductor Failure Analysis · GaN-based semiconductor devices and materials · Nanofabrication and Lithography Techniques
数据覆盖：9 个公开学术数据源交叉核验（crossref、fqb、jcr、openalex、scimago、wikidata、xr、cwts、jufo）。
数据来源与实体核验
期刊官网 · OpenAlex 期刊实体 · Wikidata 期刊实体 · Wikidata 英文名:Journal of vacuum science and technology. B, Nanotechnology & microelectronics : materials, processing, measurement, & phenomena : JVST B
核心指标
- 影响因子(JCR 2025):1.600
- JCR 分区:Q4(ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC)
- 中科院分区(2025):工程技术 4区，大类排名 727/1437;小类:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：电子与电气 4区，排名 235/352
- 新锐分区(2026):工程技术 4区
- SJR:0.359(Q3)，2025 年，United States
- CWTS 2025:SNIP 0.689 · IPP 1.440 · 自引率 7.3%
- JUFO 出版渠道等级:芬兰 1 · 挪威 1 · 丹麦 1
- h-index:62
- i10 指数:1483
- 近两年篇均被引:2.01
- 载文量 4527 · 总被引 46842
- Crossref DOI 总量:4422，近期 472
逐年趋势
- 近年影响因子:2020 1.42 → 2021 1.57 → 2022 1.4 → 2023 1.5 → 2024 1.2
- 近年 SJR:2021 0.42(Q2) → 2022 0.4(Q2) → 2023 0.328(Q3) → 2024 0.28(Q3) → 2025 0.359(Q3)
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常见问题
《JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B》的影响因子是多少?
根据 JCR 2025 年数据,《JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B》的最新影响因子(IF)为 1.600。
《JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B》是几区期刊?
《JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B》中科院分区(2025年版)为工程技术4区,JCR 分区为 Q4。