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Chemical Vapor Deposition
出版商：Wiley (John Wiley & Sons) · ISSN：0948-1907, 1521-3862 · 国家/地区：DE · 类型：journal · 创刊：1995 · 官网：http://www.cvd-journal.de/
研究主题：Semiconductor materials and devices · Copper Interconnects and Reliability · Electronic and Structural Properties of Oxides · Metal and Thin Film Mechanics · Catalytic Processes in Materials Science
数据覆盖：6 个公开学术数据源交叉核验（crossref、openalex、scimago、wikidata、cwts、jufo）。
数据来源与实体核验
期刊官网 · OpenAlex 期刊实体 · Wikidata 期刊实体
核心指标
- SJR:0.533(Q2)，2018 年，Germany
- CWTS 2018:SNIP 0.965 · IPP 1.773 · 自引率 0.0%
- JUFO 出版渠道等级:芬兰 1 · 挪威 1
- h-index:70
- i10 指数:709
- 载文量 1485 · 总被引 28566
- Crossref DOI 总量:1467
逐年趋势
- 近年 SJR:2014 0.51(Q2) → 2015 0.612(Q2) → 2016 0.654(Q2) → 2017 0.639(Q2) → 2018 0.533(Q2)